中国芯片制造公司正在招揽韩国半导体工程师，加强中国半导体供应链，以应对美国的制裁。有招聘广告特别指明韩国三星电子和SK Hynix的工程师。此前，中国两家半导体厂商从台湾的台积电（TSMC) 高薪挖角了100多名经验丰富的工程师和管理人员。
韩国商报（Business Korea) 星期一（8月24日）报道说，据信这是因为美国扩大对华为以及一些中国科技公司的制裁，这些制裁将使中国公司难以从美国科技业者那里得到至关重要的零部件，限制了对DRAM和NAND等内存半导体的供应，这让中国当局有很大的危机感。
这篇报道说，招聘网页上提到聘雇10纳米级DDR4 DRAM ID设计师。广告中特别提到将为前三星电子和SK Hynix的工程师提供优厚待遇，包括高薪、住房以及提供他们的子女上国际学校。
韩国商报报道，韩国猎头公司正在为一家中国公司物色半导体蚀刻专业人士；广告上说，一家知名的外国公司招聘有硕士或更高学位的工程师，曾经担任蚀刻或等离子注入领域单位主管的专家。
报道说，韩国一位业界人士表示，中国公司正试图与三星电子在中国西安的NAND快闪记忆体工厂，以及SK Hynix位于无锡的DRAM 工厂员工联系，以确保半导体的人力资源。这位人士说，韩国工作人员充分了解转移到中国公司工作的风险，但这并不意味着他们永远不会转到中国公司去。
韩国商报还说，韩国业界人士认为，中国更喜欢半导体内存业的韩国工程师，以及台湾的无厂半导体（Fabless) 以及晶圆代工（Foundry) 业的工程师。
日本媒体日经亚洲评论（Nikkei Asian Review) 8月12日报道说，自去年以来中国的泉芯集成电路制造（济南）有限公司（QXIC)，以及武汉弘芯半导体制造有限公司（HSMC) 和多个他们的附属公司高薪聘用了台积电100多名经验丰富的工程师和经理，目的是为了培育本土芯片产业，减少对外国零部件供应商的依赖。
对于中国公司在韩国招揽刻蚀和等离子科技人才，专门为中国电子工程师和电子业主管提供电子技术开发应用资讯的网络传媒“电子工程世界”（EEWORLD) 星期二在其网站上援引韩国商报的报道说，刻蚀是在半导体电路上绘制图案的过程，随着半导体生产工艺最近被小型化到纳米级，其重要性与日俱增。等离子注入是指在半导体表面上镀上一层薄薄的薄膜，除了蚀刻外，还用于沉积、离子注入和清洗过程。
